二氧化硅悬浮抛光液
二氧化硅悬浮抛光液用于最终抛光，分散在具有化学腐蚀性的液体载体中的研磨颗粒混合物。它提供了优秀的化学-机械抛光作用，导致无变形表面。
CMP-300 二氧化硅抛光液这种pH值为9.8的非结晶二氧化硅悬浮液可为各种材料，特别是有色金属，PCB和IC提供出色的最终抛光。
| 粒度(um) | 包装 | 订购代码 |
| 0.05 | 500 ml | 04-450500 |
| 0.05 | 1000 ml | 04-451000 |
| 0.05 | 5000 ml | 04-455000 |
CMP-400 二氧化硅抛光液这种pH值为10.2的非结晶二氧化硅悬浮液可产生极好的最终抛光效果。
尤其是钛，铁，钢。
| 粒度(um) | 包装 | 订购代码 |
| 0.05 | 500 ml | 04-460500 |
| 0.05 | 1000 ml | 04-461000 |
| 0.05 | 5000 ml | 04-465000 |
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